遮蔽是一个重要的暗化因素, 用于在各种尺度下重建阴影:
小尺度: 微遮蔽, 用于处理折痕, 裂缝和空洞
中等尺度: 宏遮蔽, 用于处理物体自身几何遮蔽或法线贴图(砖块等)中烘焙几何体的遮蔽.
大尺度: 遮蔽来自物体之间的接触, 或来自物体自身的几何.
微遮蔽: 在漫反射贴图中预先烘焙漫反射微遮蔽, 并在反射纹理中预先烘焙镜面微遮蔽. 在我们的系统中, 微遮蔽可以简单地在基色图中烘焙. 这必须在知道镜面光不受微遮蔽的影响情况下才可以.
中等尺度的环境遮蔽在环境遮蔽贴图中预烘焙, 并作为材质参数(Ambient occlusion)提供.
大尺度的环境光遮蔽通常使用屏幕空间技术来计算, 例如SSAO(屏幕空间环境光遮蔽), HBAO(基于地平线的环境光遮蔽)等. 请注意, 当相机足够接近表面时, 这些技术也可用于中等尺度的环境遮蔽.
注意: 为了防止在使用中等和大尺度遮蔽时过度变暗, Lagarde建议使用 min(AOmedium,AOlarge).
http://example.com/2025/07/15/遮蔽/